脉冲激光薄膜沉积系统01
技术指标:
工作气体 KrF;输出最大单脉冲能量 400mJ;输出波长 248 nm; 重复频率:1-20Hz;样品常用温度 850℃,最高可达900℃,安装红外测温仪监测样品温度;真空度≦5X10-6Pa,可在氧气氛围下生长,最高生长氧压为5Pa。具有主腔和副腔,在副腔中更换样品,以保证主腔的高真空度。
仪器功能:
脉冲激光薄膜沉积系统可精确控制纳米尺寸的氧化物薄膜的生长。通过控制电柜实现自动和手动控制,可实现高温下生长。
放置地点:强磁场中心二楼208室 仪器管理员:刘鑫宇
邮箱: xyliu@hmfl.ac.cn 联系电话: 183 2558 8721