小型台式无掩膜光刻机

仪器功能：

      小型台式无掩膜光刻直写系统可以为微流控、MEMS、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制DMD微镜矩阵开关，经过光学系统调制，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。同时其还具备结构紧凑（70cm × 70cm × 70cm）、高直写速度，高分辨率（XY：<1 um）的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。

放置地点：强磁场中心一楼大厅超净间          仪器管理员：朱相德

邮箱：xdzhu@hmfl.ac.cn                                联系电话：136 3706 3970